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关于研发机构采购设备税收政策的通知
发布时间:2011/6/28 点击:94
导读:
详细介绍
为了鼓励科学研究和技术开发,促进科技进步,经国务院批准,对外资研发中心进口科技开发用品免征进口税收,对内外资研发机构采购国产设备全额退还增值税。现将有关事项具体明确如下:
一、外资研发中心适用《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)免征进口税收,根据其设立时间,应分别满足下列条件:
(一)对2009年9月30日及其之前设立的外资研发中心,应同时满足下列条件:
1.研发费用标准:(1)对新设立不足两年的外资研发中心,作为独立法人的,其投资总额不低于500万美元;作为公司内设部门或分公司的,其研发总投入不低于500万美元;(2)对设立两年及以上的外资研发中心,企业研发经费年支出额不低于l000万元。
2.专职研究与试验发展人员不低于90人。
3.设立以来累计购置的设备原值不低于1000万元。
(二)对2009年10月1日及其之后设立的外资研发中心,应同时满足下列条件:
1.研发费用标准:作为独立法人的,其投资总额不低于800万美元;作为公司内设部门或分公司的,其研发总投入不低于800万美元。
2.专职研究与试验发展人员不低于150人。
3.设立以来累计购置的设备原值不低于2000万元。
具体审核办法由商务部会同财政部、海关总署、国家税务总局另行制定。
二、适用采购国产设备全额退还增值税政策的内外资研发机构包括:
(一)《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)规定的科学研究、技术开发机构。
(二)《科学研究和教学用品免征进口税收规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第45号)规定的科学研究机构和学校。
(三)符合本通知第一条规定条件的外资研发中心。
具体退税管理办法由国家税务总局会同财政部另行制定。
三、本通知所述设备,是指本通知附件所列的为科学研究、教学和科技开发提供必要条件的实验设备、装置和器械。 ’
四、本通知执行期限为2009年7月1日至2010年12月31日。
一、外资研发中心适用《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)免征进口税收,根据其设立时间,应分别满足下列条件:
(一)对2009年9月30日及其之前设立的外资研发中心,应同时满足下列条件:
1.研发费用标准:(1)对新设立不足两年的外资研发中心,作为独立法人的,其投资总额不低于500万美元;作为公司内设部门或分公司的,其研发总投入不低于500万美元;(2)对设立两年及以上的外资研发中心,企业研发经费年支出额不低于l000万元。
2.专职研究与试验发展人员不低于90人。
3.设立以来累计购置的设备原值不低于1000万元。
(二)对2009年10月1日及其之后设立的外资研发中心,应同时满足下列条件:
1.研发费用标准:作为独立法人的,其投资总额不低于800万美元;作为公司内设部门或分公司的,其研发总投入不低于800万美元。
2.专职研究与试验发展人员不低于150人。
3.设立以来累计购置的设备原值不低于2000万元。
具体审核办法由商务部会同财政部、海关总署、国家税务总局另行制定。
二、适用采购国产设备全额退还增值税政策的内外资研发机构包括:
(一)《科技开发用品免征进口税收暂行规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第44号)规定的科学研究、技术开发机构。
(二)《科学研究和教学用品免征进口税收规定》(财政部、海关总署、国家税务总局令第45号)规定的科学研究机构和学校。
(三)符合本通知第一条规定条件的外资研发中心。
具体退税管理办法由国家税务总局会同财政部另行制定。
三、本通知所述设备,是指本通知附件所列的为科学研究、教学和科技开发提供必要条件的实验设备、装置和器械。 ’
四、本通知执行期限为2009年7月1日至2010年12月31日。
科技开发、科学研究和教学设备清单
为科学研究、教学和科技开发提供必要条件的实验设备、装置和器械(不包括中试设备),具体包括以下三类:
一、实验环境方面
(一)教学实验仪器及装置;
(二)教学示教、演示仪器及装置;
(三)超净设备(如换气、灭菌、纯水、净化设备等);
(四)特殊实验环境设备(如超低温、超高温、高压、低压、强腐蚀设备等);
(五)特殊电源、光源(如电极、开关、线圈、各种光源等);
(六)清洗循环设备;
(七)恒温设备(如水浴、恒温箱、灭菌仪等);
(八)小型粉碎、研磨制备设备。
二、样品制备设备和装置
(一)特种泵类(如分子泵、离子泵、真空泵、蠕动泵、蜗轮泵、干泵等);
(二)培养设备(如培养箱、发酵罐等);
(三)微量取样设备(如移液管、取样器、精密天平等);
(四)分离、纯化、浓缩设备(如离心机、层析、色谱、萃取、结晶设备、旋转蒸发器等);
(五)气体、液体、固体混合设备(如旋涡混合器等):
(六)制气设备、气体压缩设备:
(七)专用制样设备(如切片机、压片机、镀膜机、减薄仪、抛光机等),实验用注射、挤出、造粒、膜压设备:实验室样品前处理设备;
(八)实验室专用小器具(如分配器、量具、循环器、清洗器、工具等)。
三、实验室专用设备
(一)特殊照相和摄影设备(如水下、高空、高温、低温等);
(二)科研飞机、船舶用关键设备和部件:
(三)特种数据记录设备及材料(如大幅面扫描仪、大幅面绘图仪、磁带机、光盘机等):
(四)特殊电子部件(如电路板、特种晶体管、专用集成电路等):
(五)材料科学专用设备(如干胶仪、特种坩埚、陶瓷、图形转换设备、制版用于板、特种等离子体源、离子源、外延炉、扩散炉、溅射仪、离子刻蚀机,材料实验机等),可靠性试验设备,微电子加工设备,通信模拟仿真设备,通信环境试验设备;
(六)小型熔炼设备(如真空、粉末、电渣等),特殊焊接设备;
(七)小型染整、纺丝试验专用设备;
(八)电生理设备。
一、实验环境方面
(一)教学实验仪器及装置;
(二)教学示教、演示仪器及装置;
(三)超净设备(如换气、灭菌、纯水、净化设备等);
(四)特殊实验环境设备(如超低温、超高温、高压、低压、强腐蚀设备等);
(五)特殊电源、光源(如电极、开关、线圈、各种光源等);
(六)清洗循环设备;
(七)恒温设备(如水浴、恒温箱、灭菌仪等);
(八)小型粉碎、研磨制备设备。
二、样品制备设备和装置
(一)特种泵类(如分子泵、离子泵、真空泵、蠕动泵、蜗轮泵、干泵等);
(二)培养设备(如培养箱、发酵罐等);
(三)微量取样设备(如移液管、取样器、精密天平等);
(四)分离、纯化、浓缩设备(如离心机、层析、色谱、萃取、结晶设备、旋转蒸发器等);
(五)气体、液体、固体混合设备(如旋涡混合器等):
(六)制气设备、气体压缩设备:
(七)专用制样设备(如切片机、压片机、镀膜机、减薄仪、抛光机等),实验用注射、挤出、造粒、膜压设备:实验室样品前处理设备;
(八)实验室专用小器具(如分配器、量具、循环器、清洗器、工具等)。
三、实验室专用设备
(一)特殊照相和摄影设备(如水下、高空、高温、低温等);
(二)科研飞机、船舶用关键设备和部件:
(三)特种数据记录设备及材料(如大幅面扫描仪、大幅面绘图仪、磁带机、光盘机等):
(四)特殊电子部件(如电路板、特种晶体管、专用集成电路等):
(五)材料科学专用设备(如干胶仪、特种坩埚、陶瓷、图形转换设备、制版用于板、特种等离子体源、离子源、外延炉、扩散炉、溅射仪、离子刻蚀机,材料实验机等),可靠性试验设备,微电子加工设备,通信模拟仿真设备,通信环境试验设备;
(六)小型熔炼设备(如真空、粉末、电渣等),特殊焊接设备;
(七)小型染整、纺丝试验专用设备;
(八)电生理设备。